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반도체, 실험·분석, 광학·UV, 고온·화공. 공정 온도와 청정도에 석영 품번을 맞춥니다.
표준 추천입니다. 웨이퍼 구경, 파장, 설계 압력, OH가 있으면 품번을 다시 고릅니다.
| 분야 | 권장 품번 | 핵심 조건 | 비고 |
|---|---|---|---|
| 반도체 확산 | SG-QW-B150 / B200 / DT150 / P300 | SEMI F72, 금속 ppb | 슬롯 피치 도면 |
| 반도체 세정 | SG-QW-C200 | HF 세정, 활면 | 클린백 출하 |
| 실험 반응관 | SG-QT-T1020 / T1050 | 1100 °C, OH 선택 | 양단 가공 옵션 |
| 램프 | SG-QT-T1006 / T1020, 저OH | OH <10 ppm | 2025.11 양산 |
| 분광 · 큐벳 | SG-OF-CV10 / UV10 | 파장별 투과 | 광학 연마 |
| UV 창 | SG-OF-UV10, SG-QP-UV3 | 185–2500 nm | 합성 석영 |
| 고온 관찰창 | SG-QP-W1010 / W2020 / R150 | 1100 °C급 창 | 가스켓 면 |
| 화공 · 보일러 | SG-SG-LG20 / HT15 / TM5 / BS33 | 내압·내열 | 석영 불필요 구간 |
| 용해 · 단열 | SG-OQ-CR05 / CR20 / IN10 | 불투명 단열 | 뚜껑 세트 |
수평·종형 확산로에는 6·8인치 보트와 확산관, 페데스탈을 넣습니다. 금속 Al/Na/Fe와 SEMI F72 파티클을 로트 성적서에 붙입니다. 세정조 C200은 HF·SC1 구간에 활면으로 냅니다.
2026년 3월 제2가공동 선반 4대 증설로 8인치 물량을 같은 동에서 소화합니다. 슬롯 피치와 웨이퍼 매수는 도면 합의입니다.
추천: SG-QW-B150 / B200 / P300 / DT150 / C200
반응관과 가스 라인은 투명 석영관 T1020·T1050이 기본입니다. 소량 용해는 불투명 도가니 CR05, 분광은 10 mm 큐벳 CV10을 씁니다.
양단 면취·화염 폴리시, 표준 길이 1000/1200/1500 mm를 실험실 납기에 맞춰 자릅니다. 저OH가 필요하면 T1006·T1020·T1050의 OH10 옵션을 지정하십시오.
추천: SG-QT-T1020 / T1050 · SG-OQ-CR05 · SG-OF-CV10
합성 석영 UV 창과 판재 UV3는 185–2500 nm 구간을 관리합니다. IR 창은 근적외 투과를, 렌즈 블랭크는 후가공용으로 냅니다.
파장별 투과율 표를 성적서에 붙입니다. 고온만 필요하고 광학 등급이 아니면 전기용융 판재 W1010·W2020이 납기가 짧습니다.
추천: SG-OF-UV10 / IR20 / CV10 / LS25 · SG-QP-UV3
석영 관찰창은 로 온도 1100 °C급에 W1010·W2020·R150을 씁니다. 화공 반응기와 보일러 액면은 붕규산 관, 액면계, 사이트글라스, 강화 뷰포트로 넘깁니다.
설계 압력과 유체를 주시면 두께와 가스켓 면을 적습니다. 용해·단열은 불투명 도가니와 인슐레이션 링을 같이 설계합니다.
추천: SG-QP-W2020 / R150 · SG-SG-HT15 / LG20 / TM5 / BS33 · SG-OQ-CR20 / IN10
